预计中国将解决“瓶颈”问题。光刻机的问题

纵观全球光刻机制造领域，荷兰的ASML是当之无愧的第一大巨头。 ASML以超过10亿元人民币的价格出售EUV光刻机，但即便如此，台积电和三星仍会急于购买它。
ASML不仅在市场份额上遥遥领先于竞争对手，而且对其技术优势也很有信心。 ASML曾经威胁说，即使公开了EUV光刻机的图纸，也没有公司能够独自制造它。
这不是ASML的吹牛，因为这是事实。 EUV光刻机集成了许多领域的尖端技术，并且零件来自各个行业的顶级供应商，并且可以想象组装的难度。
因此，佳能和尼康等前巨头一直落后。中国领先的光刻机制造商上海微电子仅征服了28nm光刻机。
但这并不意味着我国愿意让核心技术继续掌握在外国公司的手中。因此，在2020年下半年，中国科学院公开宣布，它将聚集整个研究所的力量，以克服光刻机制造问题，并帮助中国公司摆脱被卡住的命运。
迄今为止，尽管中国科学院尚未报道相关的好消息，但清华大学已经公布了最新的研究成果。据了解，这一成就有望解决光刻机的问题，从而可以期待国产芯片的未来。
2月25日，一份有关“稳态微束”的研究论文发表了。来自国际清算大学工程系唐传祥教授的研究小组的新型粒子加速器光源的研究成果发表在国际权威杂志《自然》上。
同时，清华大学官方网站也发布了好消息。作者了解到，这与用于光刻机的新光源技术有关。
众所周知，世界上只有两家公司掌握美国和德国的极紫外光源解决方案，而ASML使用美国解决方案。但是，美国和德国的极紫外光源解决方案都存在两个主要问题：稳定性和寿命。
这是因为溶液需要连续刺激滴下的锡滴，并且锡易挥发。因此，增加光源的功率是相对困难的。
另一方面，清华大学和合作团队的研究计划是使用可控的电子束来发射极紫外光，而不是被激发而发光。与美国的解决方案相比，清华大学的研究在理论上具有更高的稳定性，并且更容易增加光源的功率。
如果该解决方案最终可以落地并实现商业用途，那么家用光刻机可能确实可以超越曲线，而不再受美国的限制。但是，实现这一过程极其困难和危险。
作者认为，一旦国产光刻机自主研发，将来国产芯片的可能性将无限。但是在此之前，我国相关产业面临的挑战仍然严峻。